Gezicht op buitenplaats Beek en Hoff
anoniem
vermeld op object 
RP-P-2019-1921
prent
Rijksmuseum Amsterdam
lithografie (techniek)

urn:rijksmuseum:thesaurus:RM0001.THESAU.64876
Publiek Domein
http://creativecommons.org/publicdomain/mark/1.0/
Uitgebreide informatie